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        匀胶机、显影机



        匀胶机(Spin Coater-200)


        项目

        基本参数

        设备名称

        Spin Coater、涂布面、匀胶机、甩胶机、旋涂仪

        设备用途

        匀胶

        操作模式

        半自动或手动模式

        设备构成

        由洁净高纯材料板、海外部件 、净化过滤组件 、泵浦阀件、气路压力表件、废液装置等构成;

        设备参数

        主体采用优质PP\PVDF\PVC\SUS洁净材料及配件实行施工工艺;

        ◎ 根据用户环境不同设计合理的(包括台式 、嵌入式、手套箱式)方案;

         适合于4-8英寸晶圆工艺自动点胶系统或手动移液枪滴液 ,人机界面控制;

         工业伺服电机系统,满足工业化生产要求可选去边 、背洗、温控循环系统底部排液;

         转速可调范围:20-10000rpm;

         加减速度可调范围:0-50000rpm/s转速精度:±1rpm ,更高精度可选最多可升级4路自动点胶功能可存贮100100步涂胶程序;

         外型尺寸:1500mm()*1050mm()*2100mm(H) ;

        系统设计包括洁净新风系统、废液收集系统以及黄光环境等各项指标;

        系统设计去离子水 、增压泵浦(可选件)、CDA或氮气压力端子或管路装置;

        ◎ 应用范围 :半导体化合物、集成电路和IC、光伏、LED、TFT-LCD、化工 、光子光量子、石化、科研院所或其他工业用户;

         

         


        Develop-200


        项目

        基本参数

        设备名称

        显影机、Develop

        设备用途

        匀胶、曝光后显影用途

        操作模式

        半自动或手动模式

        设备构成

        由洁净高纯材料板、海外部件、净化过滤组件 、泵浦阀件、气路压力表件、废液装置等构成;

        设备参数

        主体采用优质PP\PVDF\PVC\SUS洁净材料及配件实行施工工艺;

        ◎ 根据用户环境不同设计合理的(包括台式、嵌入式 、手套箱式)方案;

         适合于4-8英寸晶圆显影工艺,人机界面控制;

         摆臂式自动多路显影喷液,去离子水 ,吹气功能·可根据不同工艺更换多种显影喷头;

         转速可调范围:20-10000rpm;

         加减速度可调范围:0-50000rpm/s.转速精度:±1rpm,可存贮100100步涂胶程序 ;

         外型尺寸:1500mm()*1050mm()*2100mm(H);

        系统设计包括洁净新风系统 、废液收集系统以及黄光环境等各项指标;

        系统设计去离子水 、增压泵浦(可选件) 、CDA或氮气压力端子或管路装置;

        工业伺服电机系统,性能稳定,满足工业化生产要求·可选显影液控温循环系统,增强工业稳定性·底部排废,顶部抽风功能;

        ◎ 应用范围:半导体化合物、集成电路和IC、光伏、LED、TFT-LCD、化工、光子光量子 、石化、科研院所或其他工业用户;


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